非晶硅薄膜

粗糙度0.18nm

飞秒激光抛光将非晶硅表面粗糙度降低一个数量级，从RMS 1.84nm降至0.18nm，通过光谱权重向高频转移实现平滑。

Huakun, Zhong · Zou, Tingting · Ziyuan, Huang · 徐开 · Xiao, Sun · 79832170 · 杨建军 · 邓伟杰 · 张志宇

2026

参数信息

RMS粗糙度

0.18 nm

Ra粗糙度

0.128 nm

技术优势

粗糙度降一个数量级

在优化参数下，RMS粗糙度从1.84 nm降至0.18 nm，显著改善表面质量。

非烧蚀，无损伤

采用非烧蚀飞秒激光抛光，避免材料去除造成的表面损伤。

光谱权重向高频转移

RMSD分析表明粗糙度抑制源于光谱权重从低中频转移到高频。

应用场景

• 薄膜电子器件：提供低粗糙度非晶硅薄膜，减少界面散射，提升器件性能。
• 光伏器件：光滑表面降低光反射和载流子复合，提高光电转换效率。
• 光电子器件：改善表面形貌，减少散射损耗，提高光电器件可靠性。