APPJ沉积AZO薄膜

成本低、可调性好

用常压等离子射流替代溅射制备铝掺杂氧化锌，沉积速率比镓掺杂高约一倍，且工艺参数可灵活调节薄膜厚度与光电性能。

Chih-Yun, Chou · Chiu, Pohan · Yin-Chun, Chao · Yen, Hung-Wei · Juang, Jia-Yang

Journal of Alloys and Compounds 2025

参数信息

沉积速率比

2

载流子浓度

1 ×10^20 cm^–3

迁移率

7.5 cm²/Vs

品质因数提升

100 %

技术优势

沉积快一倍

在相同工艺参数下，AZO的沉积速率约为GZO的两倍，可缩短制备时间。

工艺窗口宽

通过调节前驱体输送和工作距离，可调控薄膜厚度、形貌和光电性能，体现APPJ相比溅射的灵活性。

性能可优化

将工作距离从2 mm降至1.5 mm，AZO薄膜品质因数提升100%。

应用场景

• 透明导电氧化物：可替代高成本的镓掺杂氧化锌作为透明电极材料。
• 光电薄膜：调控工作距离优化光电性能，适配不同光电器件需求。
• 低成本透明电极：铝替代镓降低成本，非真空沉积工艺进一步节省设备投入。