纳米SiO₂聚酰亚胺复合介电膜

150 °C 储能效率 86.3%

高比表面纳米填料显著抑制高温漏电流,提升击穿场强,使聚酰亚胺复合膜在150 °C下兼具高储能密度与高放电效率。

Sen, Ren · Yuanjie, Zhao · Pang, Lixia · Wang, Xiaolong · 周迪 · Li, Wenbo · Fang, Zhen

ACS Applied Nano Materials 2023

具体参数

放电能量密度
{'zh': '5.34', 'en': '5.34'} J cm^-3
充放电效率
{'zh': '86.3', 'en': '86.3'} %
光学带隙
{'zh': '2.59', 'en': '2.59'} eV

技术优势

高温漏电流被压住

高比表面纳米SiO₂的深陷阱效应抑制电荷注入,使复合膜在高温下的漏电流密度显著降低,从而保障高场下的充放电可靠性。

击穿场强显著提高

纳米填料在基体中形成势垒并均匀电场,使复合膜在高温下能够承受更高电场而不失效,为高储能密度提供前提。

150 °C 高储能高效率

在150 °C、550 MV m⁻¹下同时获得5.34 J cm⁻³能量密度与86.3%效率,证明该复合材料可在严苛高温环境中稳定工作。

应用场景