双位点锚定富勒烯钝化层

光电压损耗骤降

通过形成强双位点P─O─Pb共价键同时钝化缺陷和优化界面能级,解决钙钛矿/PCBM界面非辐射复合难题。

Xiong, Shaobing · 王浩 · Jiang, Kai · 李迪 · Yu, Jinyang · 赵斌 · 李波 · Wu, Yuning · 姚叶锋 · 王言博 · Zhu, Haiming · 孙真荣 · 褚君浩 · 保秦烨

Advanced Materials 2025

具体参数

光电转换效率
{'zh': '26.3', 'en': '26.3'} %
开路电压
{'zh': '1.215', 'en': '1.215'} V

技术优势

界面钝化更彻底

双位点P─O─Pb共价键同时锚定钙钛矿表面两个位点,缺陷密度有效降低。

电子抽取更快

表面能级重构使费米能级上移并增强电场,促进钙钛矿/PCBM界面电子抽取。

光电压损耗更低

界面非辐射复合被显著抑制,开路电压达1.215 V,为p-i-n结构报道最高。

应用场景