合成氨低过电位
面向氮还原反应设计的高曲率氮掺杂石墨烯负载VN₄单原子催化剂,限速步电位仅0.31 V,优于大部分同类催化剂,同时抑制析氢副反应。
王金刚 · Li, Ning · Jiang, Yongjian · Sheng, Hao · 孙萌涛
Applied Surface Science 2024
VN₄(side-on)配位结构的限速步电位为0.31 V,优于多数已报道催化剂,有利于降低能耗。
该催化剂能抑制竞争性析氢反应(HER),从而提高氮还原反应的选择性。
通过高通量筛选结合密度泛函理论计算,从406个模型中选出5种高性能候选催化剂,加速了催化剂发现过程。