C₂₊选择性71.1%
通过界面电荷重分布与La掺杂协同调控，在高电流密度下稳定驱动C-C偶联，抑制析氢副反应。
Mengyuan, Qin · Ding, Yue · Liu, Guobin · 王辉 · 曲振平
Chemical Engineering Journal 2026
通过强电子相互作用提高*CO_atop覆盖度，加速C-C偶联，C₂₊法拉第效率达71.1%。
La掺杂引导水解离产生的*H优先用于C₂₊产物加氢，析氢法拉第效率低至14.6%。
La(OH)₃保护层稳定活性Cu⁺物种，防止其被还原，在650 mA cm⁻²下稳定运行900 min。