β-Ga2O3薄膜

氧空位更低

共格β-Ga2O3薄膜在SiC衬底上外延生长,氧空位浓度可调,结晶质量优异。

Xu, Bei · Hu, Jichao · 芦宾 · Jinhui, Yu · Zhihao, Yang · Zhang, Yue · He, Xiaomin · 董林鹏 · 蓬勃 · Wang, Xi · 李姚 · 杨勇 · 杨媛 · Daohua, Zhang · Ting, Hungkit · Hongbin, Pu

Vacuum 2026

参数信息

XRD摇摆曲线半高宽
1.17 °
光暗电流比
4.3×10³
比探测率
3.57×10¹¹ Jones
上升响应时间
0.20 s
衰减响应时间
0.43 s

技术优势

氧空位浓度可调

氧气/氩气流量比从低到高变化,氧空位浓度随之降低,为缺陷工程提供直接手段。

结晶质量最优

在10:200流量比下获得最小XRD摇摆曲线半高宽1.17°,表明晶体质量最佳。

探测性能优异

光电探测器比探测率达3.57×10¹¹ Jones,光暗电流比4.3×10³,可用于弱光探测。

应用场景