多离子取代BiVO₄陶瓷

低温烧结稳频介质

通过多离子共掺杂实现单斜-四方相变,在2.46 GHz下兼顾低损耗与近零温度系数,适用于对热漂移敏感的通信器件。

李纯纯 · Deqin, Chen · Khaliq, Jibran

ACS Applied Materials & Interfaces 2025

具体参数

介电常数
{'zh': '66.98', 'en': '66.98'}
介电常数
{'zh': '19.85', 'en': '19.85'}
品质因数
{'zh': '7904', 'en': '7904'} GHz
品质因数
{'zh': '16240', 'en': '16240'} GHz
谐振频率温度系数
{'zh': '+8.42', 'en': '+8.42'} ppm/°C
回波损耗
{'zh': '-22.5', 'en': '-22.5'} dB
辐射效率
{'zh': '98.8', 'en': '98.8'} %
峰值增益
{'zh': '5.22', 'en': '5.22'} dB

技术优势

低温烧结

采用常规固相法在740~860°C即可成瓷,显著降低能耗与设备要求。

介电常数可调

通过改变取代量x,εr可在66.98至19.85之间连续调节,满足不同器件设计需求。

损耗显著降低

Qf值从7904 GHz提升至16240 GHz,表明微波介电损耗大幅下降。

温度稳定性好

在x=0.055处τf为+8.42 ppm/°C,接近零漂移,适合温度敏感应用。

应用场景