BPA-BU系列正性光刻胶

40 nm 线宽图案化

含有叔丁基酯保护基团的双酚A衍生物光刻胶，通过精确控制保护比例和取代位置实现高分辨电子束光刻。

Hu, Shengwen · 陈金平 · 于天君 · Zeng, Yi · Xudong, Guo · Shuangqing, Wang · 杨国强 · 李嫕

Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 2023

参数信息

分辨率（最小线宽/间距）

40 nm

技术优势

40 nm 高分辨

两种抗蚀剂（BPA-BU-1和BPA-BU-2）均可获得40 nm的线条/间距图案，满足高精度加工需求。

灵敏度更高

BPA-BU-1抗蚀剂因其酸不稳定基团取代位置不同，灵敏度和对比度优于BPA-BU-2，可缩短曝光时间。

结构可调

保护基团的数量和位置可精确控制，从而调节光刻性能，为设计分子抗蚀剂提供指导。

应用场景

• 电子束光刻：提供40 nm分辨率，用于高精度纳米加工。
• 光刻胶：作为正性光刻胶，可旋涂成膜并批量供应。
• 微纳制造：实现40 nm L/S图案，用于微纳器件制造。