双层HAP强化A-PDA反应器
深度脱氮96.2%
利用上向流水力学定向输送碳源,形成底部厌氧氨氧化与上部部分反硝化耦合的双层结构,突破传统工艺89%的脱氮上限。
Cui Mo-Shen · Chen, Yujie · Haojie, Qin · Kubota, Kengo · 刘建勇 · Li, Yuyou
Water Research 2026
参数信息
- 总无机氮去除效率
- 96.2 %
- PDA区Thauera丰度(运行前后)
- 0.3 to 6.1 %
- PDA区Thauera比部分反硝化活性(运行前后)
- 0.019 to 0.148 g N/g VSS/d
- 厌氧氨氧化区Candidatus Kuenenia丰度
- 22.8-23.6 %
- 厌氧氨氧化区比厌氧氨氧化活性
- 0.09-0.10 g N/g VSS/d
- anammox-HAP颗粒沉降速度
- 349 m/h
- PDA-HAP颗粒沉降速度
- 41 m/h
- 反应器上向流速
- 2.39 m/h
技术优势
突破89%上限
利用上向流将碳源定向输送至上部,形成部分反硝化区,与底部厌氧氨氧化耦合,实现了超出传统厌氧氨氧化化学计量极限的总氮去除。
无需外部加碳
碳源被定向输送并富集于上部反硝化区,使Thauera丰度从0.3%升至6.1%,部分反硝化活性提高近8倍,在单一反应器内完成碳氮协同去除,无需额外投加碳源。
颗粒沉降快不流失
HAP的形成显著提高了颗粒沉降速度,anammox-HAP颗粒沉降速度达349 m/h,PDA-HAP颗粒为41 m/h,均远高于反应器上向流速2.39 m/h,有效防止污泥流失,维持双层结构稳定。
应用场景
- 低碳脱氮:在低碳要求下实现深度脱氮,替代传统硝化反硝化的高碳消耗。
- 高氨氮废水处理:处理高氨氮废水时解决碳源不足问题,无需外加碳源即可深度脱氮。
- 厌氧氨氧化工艺:突破传统厌氧氨氧化89%脱氮上限,扩展其应用至更严排放标准。