NH2-Zn2(Bim)4/聚酰亚胺膜

界面酰胺键强化

通过原位界面交联将MOF纳米片嵌入聚酰亚胺基体,消除填料与基体的界面不相容性。

Qian, Wu · He, Xinping · Cui, Chenyi · Chenchen, Jiao · 齐宝金 · 78670683

Separation and Purification Technology 2025

参数信息

氢气渗透率
680.5 Barrer
H2/N2选择性
18.7
H2/CO2选择性
13.3

技术优势

界面缺陷被消除

MOF 纳米片与聚酰亚胺之间通过酰胺键和π-π堆叠形成牢固结合,避免了传统混合基质膜中的界面空隙,从而提高气体选择性。

选择性超过上限

H2/CO2 选择性达到 13.3,超过了 Robeson 上限,意味着在相同渗透率下分离因子高于传统聚合物膜。

填料即交联剂

NH2-Zn2(Bim)4 纳米片既作为气体传输的填料,又作为反应性交联剂参与聚酰亚胺的合成,无需额外的界面改性步骤。

应用场景