电化学纳米压印双层微结构

工艺可扩展

通过可重复使用的印章实现大面积双层微结构的一致复型,为半导体微加工提供了一种可扩展的制造途径。

Ran, Hong · Bo, Chen · 刘静 · 黄其煜

Journal of Micromechanics and Microengineering 2024

具体参数

第二层特征尺寸
40 μm
深度
12.5 μm