单层MoS₂刻蚀孔

磁化率提升5倍

通过各向异性刻蚀形成高密度锯齿形边缘孔，显著增强单层MoS₂的铁磁性，且边缘取向可控，为自旋电子学应用提供新的材料平台。

Li, Qingxuan · Zhu, Yi · Chen, Fei · 吴迪 · 彭茹雯 · Wang, Mu

ACS Applied Materials & Interfaces 2024

技术优势

刻蚀MoS₂薄片的饱和磁化强度可达未刻蚀样品的5倍

刻蚀孔由锯齿形边缘界定