电磁屏蔽近46 dB
氮掺杂与多级孔结构协同,在保持高电导的同时引入多重损耗机制,让薄膜在轻薄厚度下实现高效电磁屏蔽。
高彤 · 朝晖 · 孔杰 · Zhuang, Qiang · Xiaochen, Liu · Yuelin, Lv · Ye, Ou · Chen, Lixin Chen
Composites Part A: Applied Science and Manufacturing 2025
多级孔结构与氮掺杂协同,使薄膜在X波段达到45.6 dB的屏蔽效能(48 μm厚),比未掺杂的rGO薄膜(约20 dB)提升一倍以上。
仅48 μm的薄膜即可实现45.6 dB的高屏蔽效能,绝对屏蔽效能高达35500.7 dB·cm²/g,显著优于块体金属或传统碳基材料,适合对重量和空间敏感的应用。
附PDMS涂层的薄膜在多次弯折后仍能保持98%的屏蔽效能,在柔性基板上具有长期耐久性,适用于柔性可穿戴设备。