还原炉多晶硅棒

均匀生长可控

通过匹配TCS输运与消耗，实现还原炉内多晶硅棒的均匀沉积生长。

Si, Wei · Ning, Wang · 宗原 · 戴干策 · Fanzheng, Meng · Zuodong, Yang · Ling, Zhao · Zhong, Xin · Guangjing, Jiang

Chemical Engineering Science 2024

参数信息

还原炉规模

12

技术优势

生长更均匀

通过增强轴向混合，改善TCS分布均匀性，从而减少棒间生长差异。

操作可调

通过调节入口速度和TCS摩尔分数即可控制均匀性，无需改造炉体结构。

应用场景

• 多晶硅生产：提升多晶硅棒产品质量与批次一致性。
• 光伏材料：为高效光伏电池提供均匀硅源。
• CVD工艺优化：指导还原炉操作参数优化。