机械发光氟化物纳米晶

3D应力成像

通过Cs⁺掺杂和X射线辐照在NaLuF₄:Tb³⁺纳米晶中构建深陷阱,实现机械刺激下陷阱载流子的稳定释放和比率型发光响应,用于透明3D打印结构的立体视觉应力分布成像。

Xia, Ping · 王婷 · Le, Lan · 张鹏 · 周敏 · 赵峰 · Hu, Shiqi · Kim, Ji-tae · 邱建备 · 王清远 · 余雪 · 徐旭辉

ACS Nano 2023

参数信息

陷阱深度
0.88/1.02 eV
纳米晶尺寸
25 nm

技术优势

能看见应力分布

机械刺激下陷阱载流子稳定释放,产生比率型发光强度,应力越大发光越强,从而直观显示应力分布。

能测三维应力

透明3D打印结构具有优异的光学波导,结合立体视觉可实现三维空间应力的高分辨率成像,适用于非平面结构。

纳米晶分散均匀

约25 nm的NaLuF₄:Tb³⁺纳米晶在墨水中均匀分散,保证打印结构的光学透明性和发光均匀性。

应用场景