肟磺酸盐聚苯乙烯抗蚀剂

EBL/EUV分辨率达18nm

一种可双调性显影的非化学放大抗蚀剂，通过调节肟磺酸盐比例实现高分辨率图案化。

Huiwen, An · 陈金平 · Yi, Zeng · 于天君 · 王双青 · 郭旭东 · Rui, Hu · Peng, Tian · Vockenhuber, Michaela · Kazazis, Dimitrios · Ekinci, Yasin · 杨国强 · 李嫕

ACS Applied Polymer Materials 2024

参数信息

EUV分辨率（半周期）

18 nm

线边缘粗糙度

2.3 nm

EBL分辨率（半周期，负性显影）

20 nm

EBL分辨率（半周期，正性显影）

40 nm

技术优势

显影极性可调

仅改变共聚物中肟磺酸酯单体的比例，即可在同一材料体系中实现正性或负性显影，无需更换抗蚀剂种类。

EUV分辨率达18 nm

在极紫外光刻中负性显影实现18 nm半周期，同时线边缘粗糙度仅2.3 nm，适用于高密度图案化。

分辨率较高

电子束光刻中负性显影可分辨20 nm半周期，正性显影可分辨40 nm半周期，覆盖多种图形需求。

应用场景

• 极紫外光刻：用于高分辨率极紫外光刻，直接获取18 nm半周期图形。
• 电子束光刻：用于电子束光刻，支持正负双调性显影，分辨率达20 nm。
• 微纳制造：作为微纳制造中的图形转移材料，简化工艺并提高分辨率。
• 先进光刻胶：提供一种非化学放大的先进光刻胶平台，可通过组成调节极性。