阻变层候选材料
通过原位电镜揭示双层界面缺陷与Al迁移的竞争机制，为优化阻变存储器提供直接的失效证据。
Ranjan, Alok · Xu, Hejun · 王超伦 · Molina, J. · 吴幸 · Hui, Zhang · 孙立涛 · Chu, Junhao · Pey, Kinleong
Applied Materials Today 2023
利用原位TEM结合EDS，在施加电应力的同时直接观察界面缺陷形成与元素迁移，厘清两种竞争机制。
指出Al电极的低扩散势垒是导致Al严重迁移、器件无法复位的关键，为材料优化提供直接依据。
揭示氧离子再分布与Al迁移两种物理机制在切换过程中同时存在并相互竞争。