多晶钨抛光液

粗糙度降至7 nm

利用类芬顿反应生成氧化钨钝化层，使多晶钨表面在机械磨损下更易被去除，同时获得良好的耐腐蚀性。

Lin, Wang · Maoxi, Wu · 陈泓谕 · 杭偉 · 王旭 · Yunxiao, Han · 陈恒 · 陈鹏起 · Beri, Tufa Habtamu · Laima, Luo · Lyu, Binghai

Journal of Materials Research and Technology 2024

参数信息

材料去除率

702.22 Å·min⁻¹

表面粗糙度

7.05 nm

载荷范围（纯塑性流动槽）

3–100 mN

技术优势

效率翻倍

类芬顿反应生成的羟基自由基促进氧化钨钝化层形成，该层在机械磨损下容易去除，从而大幅提高材料去除率。

表面更光滑

钝化层被均匀去除，加工后表面粗糙度Rq低至7.05 nm，满足精密抛光需求。

塑性去除无脆裂

在3–100 mN载荷范围内，钝化层以纯塑性流动方式去除，形成无脆性断裂的加工表面，减少亚表面损伤。

应用场景

• 精密抛光耗材：用于钨及多晶钨工件的化学机械抛光，获得纳米级粗糙度。
• 钨部件表面处理：在钨部件表面形成易去除的氧化钨钝化层，实现高效均匀的材料去除。