有序GeSi纳米线

位置完全可控

在图案化Si衬底上应变诱导生长的Ge(Si)纳米线,可在指定位置有序排列,表面平整,适合量子器件的大规模集成。

张建军

Nanoscale 2023

技术优势

在图案化Si (001)衬底上实现有序Ge hut线阵列

通过调节生长条件获得有序Ge纳米虚线、不连续线和连续线

在平整表面上实现位置可控的Ge纳米线

多层异质外延后表面平整