高平滑界面的Ni/Ti多层膜
通过调节反应溅射中氮氧混合气体比例，可在Ni层中形成NiO，细化晶粒并显著平滑Ni/Ti多层膜界面，同时抑制界面粗糙度复制和元素互扩散。
Shinuan, Zhao · Zhu, Jingtao · Yang, Zehua · Zhu, Yunping · Hang, Sun · 赵利
Surface and Coatings Technology 2023
反应溅射引入N2和O2气体后，Ni/Ti多层膜中Ni晶粒尺寸减小、界面平滑，从而减弱了从底层到顶层的粗糙度累积，提高多层膜结构均匀性。
反应溅射气体中N2和O2的加入抑制了Ni和Ti相邻层之间的原子互扩散，有助于保持多层膜清晰的界面和成分梯度，提升其在光学和电子应用中的性能稳定性。
通过改变(N2+O2)/Ar流量比，Ni层晶粒尺寸先减小后增大，临界点为25.0%，同时晶相由Ni转变为NiO，为通过气体比例调控多层膜微观结构提供了手段。