EUV光刻动态气锁

仿真提速4.5倍

用混合稀薄气体模拟方法替换纯DSMC,在保持抑制率偏差1.52%的同时将计算成本降低4.5倍,让EUV光刻动态气锁设计迭代从数天缩短到数小时。

He, Tianyi · Weifeng, Gao · 张志军 · Yixin, Liu · Zhao, Lijuan · Ma, Zhuoya

International Communications in Heat and Mass Transfer 2026

参数信息

抑制率平均偏差
1.52 %
计算效率提升倍数
4.5
纯气体连接处温度偏差
0.08 %

技术优势

计算快4.5倍

ESBGK-DSMC混合法通过耦合统计与确定性求解器,在抑制率偏差仅1.52%的前提下将计算效率提升4.5倍,使设计迭代从数天缩短到数小时。

抑制率偏差仅1.52%

相对于DSMC基准,混合法在抑制率上的平均偏差仅为1.52%,在四种方法中精度最高,满足工程设计要求。

纯净气体温度偏差0.08%

在DGL与POB连接处,纯净气体的温度偏差仅为0.08%,表明混合法对主流气体预测极为准确。

应用场景