填充空位不干扰主体
这种混合自组装单分子层在不干扰主体分子的情况下填补未覆盖位点,形成致密空穴选择层,从而减少界面非辐射复合损失。
Chenyang, Shi · Wang, Jianan · 杨智春 · Liu, Sanwan · 张嘉琪 · He, Zhu · 陈锐 · Pan, Yongyan · Zhengtian, Tan · Zhao, Zhengjing · Cai, Zihe · Qin, Xiaojun · Zhao, Zhiguo · Li, Jingbai · 刘宗豪 · 陈炜
Nature Communications 2025
共吸附剂 SA 倾向于填补 Me-4PACz 未覆盖的位点,无需改变原有 SAM 的沉积工艺即可形成致密覆盖。
SA/Me-4PACz 混合 SAM 有效减少埋底界面非辐射复合损失,从而提高开路电压和填充因子。
混合 SAM 优化了空穴选择层与钙钛矿之间的能级排列,有利于空穴提取并减少界面势垒。
混合 SAM 可调控宽带隙钙钛矿的结晶过程,改善薄膜质量,从而提高器件性能。