等离子改性RB-SiC陶瓷

超精密磨削低损伤

这种陶瓷经等离子体表面改性后,可在常温下实现高形状精度和低亚表面损伤的超精密磨削。

Jiabin, Xu · Qiongyi, He · Zhang, Xiangyu · Xiude, Yi · Yang, Yu · Li, Yingjie · 张龙 · Runrun, Gu · 张飞虎

Materials Science in Semiconductor Processing 2024

参数信息

表面粗糙度
0.481 nm
表面粗糙度
0.959 nm

技术优势

亚表面损伤被有效抑制

等离子体改性生成较低硬度的化合物,降低了磨削时的力热作用,从而减少裂纹萌生,提升光学元件可靠性。

表面质量达到纳米级

改性后超精密磨削可获得Sa低至0.481 nm的表面粗糙度,显著优于传统磨削,可直接用于光学反射镜等元件。

常温下即可完成改性

100 °C等离子体炬在室温环境下对陶瓷表面进行改性,无需高温设备或复杂气氛控制,简化了工艺流程。

应用场景