蓝宝石光学元件

近无损伤亚表面

经超精密研磨、抛光和离子束抛光后,蓝宝石光学元件亚表面仅残留小于2纳米的非晶结构,大部分原子结构保持完整,有效抑制了加工损伤。

Wang, Sheng · Sheng, Wang · 铁贵鹏 · 石峰 · 田野 · 杨晓冬

Journal of Manufacturing Processes 2024

参数信息

损伤去除时间缩短比例
1/4
亚表面非晶结构尺寸
2 nm

技术优势

损伤去除省时

采用超精密研磨策略后,后续抛光去除损伤所需的时间缩短为原来的四分之一,提高了加工效率。

亚表面近无损伤

经组合工艺加工后,高倍透射电镜观察显示亚表面仅存在小于2 nm的非晶结构,大部分原子排列保持完整,有效抑制了加工损伤。

实现延性域研磨

超精密研磨可以获得延性域加工表面,并抑制工件中心和边缘的损伤差异,为后续抛光提供均匀的损伤层。

应用场景