激光熔覆NiCoFeCrMo涂层

600°C氧化更耐蚀

通过激光熔覆工艺引入更高位错密度与晶格畸变，显著提升高熵合金涂层的高温抗氧化性能。

Xie, Fang · Zhai, Changsheng · 张希 · Altaş, Emre · 郑红星 · Zhang, Xin · Sainan, Jiang · Li, Xingchao · Feifei, Wu · Hua, Xijin

Journal of Alloys and Compounds 2025

具体参数

氧化速率常数
{'zh': '1.4247 × 10⁻³', 'en': '1.4247 × 10⁻³'}
氧化速率
{'zh': '2.19 × 10⁻³', 'en': '2.19 × 10⁻³'} mg·cm⁻²·h⁻¹

技术优势

氧化速率更低

激光熔覆涂层的氧化速率常数比真空熔覆低9.7%，氧化速率低11.3%，氧化膜仅由Cr₂O₃组成，结构致密。

氧化膜更致密

激光熔覆涂层表面形成仅含Cr₂O₃的双层致密氧化膜，有效抑制氧渗透；真空熔覆涂层则形成为含Cr₂O₃和(Cr,Fe)₂O₃的疏松氧化层。

强化机制更优

激光熔覆涂层具有更大的晶格畸变、更高的位错密度，带来更高的硬度、抗塑性变形能力和动态再结晶。

应用场景