无损高平整
热辅助化学机械抛光实现氮化铝表面无损平坦化,粗糙度降低近半且材料去除率显著提升。
Jinming, Li · 隋天一 · Lv, Bingrui · Xingwang, Xu · Haoxuan, Du · Hetian, Hou · 林彬 · 裘英华 · Usen, Omuraliev
Journal of Materials Processing Technology 2026
抛光后表面粗糙度从17.5 nm降至8.8 nm,降低47%,满足高平整度应用需求。
材料去除率从3.7 μm/h提升至5.8 μm/h,提高56%,显著缩短加工时间。
抛光表面无明显划痕,亚表面晶体结构保持完整,无相变或晶格畸变。
表面水化形成的非晶改性层降低了硬度,并将磨粒接触应力向两侧扩散,有效抑制亚表面损伤。