Cr优化高熵合金涂层

耐蚀率低至 1.353×10⁻⁶ g/h

通过调控Cr含量在BCC相均匀分布形成致密Cr₂O₃膜，阻断腐蚀离子渗透，在富硫酸盐环境中实现最优防护。

ZhiHui, He · 董艳春 · Yun, Tian · 王玉新 · DongShu, Zhao · Xing, Yang · 杨勇 · Zhao, Hongjian

Journal of Alloys and Compounds 2025

具体参数

腐蚀速率

{'zh': '1.353×10⁻⁶', 'en': '1.353×10⁻⁶'} g/h

技术优势

耐蚀性最优

涂层形成致密Cr₂O₃内层，有效阻断SO₄²⁻等腐蚀离子渗透。

钝化膜更致密

Cr均匀分布于BCC相，促进完整保护性Cr₂O₃膜形成。

电荷转移阻力最高

EIS证实涂层具有最高电荷转移电阻，显著延缓电化学腐蚀。

应用场景

• 高熵合金涂层：用于严苛硫酸盐环境，替代易腐蚀常规涂层。
• 耐腐蚀金属材料：通过优化Cr含量，获得极低腐蚀速率。
• 激光熔覆涂层：激光熔覆制备，实现Cr均匀分布和致密钝化膜。