绿色CMP抛光液

原子级表面粗糙度

用环保组分替代有毒腐蚀性浆料，在熔融石英上实现原子级光滑表面，同时保持高材料去除率。

张振宇 · 邓星桥 · 周红秀 · 孟凡宁 · Chunjing, Shi

Nanoscale 2024

参数信息

表面粗糙度 Sa

0.126 nm

损伤层厚度

8.8 nm

直接接触面积占比

11.12 %

界面应力范围

2.21-6.43 GPa

纤维交叉点应力范围

0.1-0.01 MPa

技术优势

无需毒性浆料

采用过氧化氢、碳酸钠、羟乙基纤维素等环保组分，避免有毒腐蚀性物质对环境的污染。

亚纳米级粗糙度

在熔融石英上获得表面粗糙度Sa 0.126 nm，满足原子级平坦度要求。

损伤层薄

损伤层厚度仅8.8 nm，减少后续修复工序。

应用场景

• 半导体晶圆抛光：在晶圆平坦化中实现原子级表面，减少缺陷。
• 光学元件加工：为光学元件提供亚纳米粗糙度，降低散射损耗。
• 精密表面处理：用于精密表面处理，获得可控的低损伤层。