紫外激光净水组件

高能脉冲更高效

采用266 nm高能脉冲紫外激光，直接激活氯或过硫酸盐产生自由基，对顽固有机污染物具有优异的降解性能，且耐pH和离子干扰，适合水处理升级改造。

Qi, Fu · Wang, Xingxing · He, Huan · Zhang, Tian Yang · Jian, Lu · Xu, Mengyuan · Pan, Renjie · Cao, Tongcheng · Gamal el-Din, Mohamed · 徐斌

Chemical Engineering Journal 2024

参数信息

降解速率常数

3.160 × 10⁻³ s⁻¹

降解速率常数

1.227 × 10⁻³ s⁻¹

羟基自由基贡献率

54.90 %

硫酸根自由基贡献率

23.15 %

技术优势

降解更快

激光/氯体系对卡马西平的降解速率常数是激光/过硫酸盐体系的2.6倍。

pH适用范围宽

在pH 5.0–9.0范围内保持高效降解，对阴离子干扰有高抵抗性。

无需自由基清除剂

通过光解产生的活性物种直接降解污染物，无需额外添加清除剂。

应用场景

• 水处理：替代汞灯，用于饮用水中药物污染物的深度去除。
• 高级氧化：为高级氧化提供高能量脉冲光源，提高自由基产率。
• 紫外消毒设备：可集成到紫外消毒设备中，同步实现消毒和污染物降解。
• 药物污染物去除：高效降解卡马西平等难去除药物，且产物毒性可评估。