低配位NiFe层状双氢氧化物

254 mV低过电位

腐蚀法制备的富氧空位NiFe LDH在铁泡沫上具有低配位活性位点,促进快速电化学重构为高活性羟基氧化物,显著降低OER能垒并提升稳定性。

Xuhui, Wei · 张宗豪 · 王军威 · Yin, Kui · 杨昊 · 吴孔林 · 江彬彬

Small 2025

具体参数

斜率
51.7 mV dec⁻¹

技术优势

254 mV过电位

500 mA cm⁻²下稳定100小时