钙钛矿单晶薄膜

低温原位生长

通过辅助溶剂策略在低温下原位生长,实现大面积、低缺陷密度和高稳定性。

Jiang, Lixian · Yan, Xinghua · 刘翔宇 · 陈家伟 · Ma, Dongxin · 董桂芳

Small 2025

参数信息

最大面积
10 mm²
缺陷密度
4.42 × 10¹² cm⁻³
探测率
4.01 × 10¹² Jones
线性动态范围
127 dB
光电流保持率
90 %

技术优势

室温可生长

四氢呋喃作为辅助溶剂与γ-丁内酯中前驱体形成氢键,提高室温饱和溶解度,从而免去高温设备与能耗。

缺陷密度低

所得单晶薄膜缺陷密度为4.42×10¹² cm⁻³,长程有序堆叠、大晶粒、少晶界,有利于载流子传输。

湿度下稳定

器件在60%相对湿度下存放近120天后仍保持约90%的初始光电流,展现出长期运行潜力。

应用场景