钙钛矿单晶薄膜
低温原位生长
通过辅助溶剂策略在低温下原位生长,实现大面积、低缺陷密度和高稳定性。
Jiang, Lixian · Yan, Xinghua · 刘翔宇 · 陈家伟 · Ma, Dongxin · 董桂芳
Small 2025
参数信息
- 最大面积
- 10 mm²
- 缺陷密度
- 4.42 × 10¹² cm⁻³
- 探测率
- 4.01 × 10¹² Jones
- 线性动态范围
- 127 dB
- 光电流保持率
- 90 %
技术优势
室温可生长
四氢呋喃作为辅助溶剂与γ-丁内酯中前驱体形成氢键,提高室温饱和溶解度,从而免去高温设备与能耗。
缺陷密度低
所得单晶薄膜缺陷密度为4.42×10¹² cm⁻³,长程有序堆叠、大晶粒、少晶界,有利于载流子传输。
湿度下稳定
器件在60%相对湿度下存放近120天后仍保持约90%的初始光电流,展现出长期运行潜力。
应用场景
- 钙钛矿光电器件:用大面积高质量单晶薄膜直接制备器件,省去高温工艺。
- 高稳定性光电探测:器件在60%相对湿度下存放120天仍保持90%光电流,适合长期监测。
- 钙钛矿太阳能电池:低缺陷密度薄膜可减少复合,提升电池效率与稳定性。
- 光电传感器:高探测率和宽线性动态范围使器件能分辨宽范围光强。