二维黑砷

厚度可精确调控

通过热退火策略实现了黑砷薄片厚度的精确控制，为二维黑砷在纳米电子和光电子领域的应用铺平了道路。

Du, Guoshuai · Ke, Feng · 陈斌 · 夏庆林 · 康俊 · Chen, Yabin

Journal of Physical Chemistry Letters 2023

具体参数

仅在低于

0.7 GPa

技术优势

在300 °C升华