原子氧下被动氧化
在1300–2300 K原子氧环境中,通过表面被动氧化行为避免活性氧化导致的材料损耗,为高超声速热防护提供稳定界面。
孟松鹤 · Zeng, Qingxuan · Zexuan, Wang · 杨帆
Chemical Engineering Journal 2025
通过双光子激光诱导荧光诊断实验,准确测量了1300–2300 K温度范围内SiC表面的原子氧消耗系数,为界面传热传质计算提供定量依据。
结合SEM图像表征,观察到SiC表面氧化行为从活性模式向被动模式转变的过程,为设计稳定抗氧化界面提供指导。
通过反应分子动力学模拟统计得到氧化产物的数量和结构,揭示了被动氧化形成的SiO2保护层在界面处的原子尺度演化。