TiVTa基自间隙缺陷

第一性原理与分子动力学系统揭示TiVTa基浓固溶体合金中自间隙的形成、扩散行为及其化学偏置,为辐照环境下高熵合金的缺陷演化提供原子尺度依据。

Yong-Peng, Zhao · 豆艳坤 · 贺新福 · 邓辉球 · 王林锋 · Yang, Wen

Computational Materials Science 2023

技术优势

明确最稳定缺陷构型

确定[111] VV和TiV哑铃为最稳定自间隙构型,为后续扩散和演化模拟提供可靠起点。

揭示合金化抑制扩散

TiVTa基合金中自间隙扩散率远低于纯V,源于特定稳定构型和晶格畸变,有助于提高抗辐照肿胀能力。

实现化学偏置扩散

间隙原子倾向富V环境并沿特定路径优先扩散,可通过成分调控缺陷输运行为。

应用场景