P-top层高压SOI-LIGBT

重复ESD下退化更小

引入P-top层结构,显著抑制重复ESD应力下的电流密度退化,提升器件可靠性。

Lu, Li · Zhihan, Zhu · Yixin, Dai · Liu, Siyang · Sun, Weifeng · Zhang, Long · Lin, Feng · Jinyu, Xiao · Jun, Sun

IEEE Transactions on Electron Devices 2023

技术优势

不添掩模

P-top层与P-body共用同一光罩,制造流程不增加额外步骤。

应用场景