碳化硅衬底

经氦聚焦离子束加工后，其非晶区损伤剖面可由经验方程描述，与硅衬底对比明确。

Shupeng, Gao · Xi, Chen · Chen, Qianhuang · Li, Qi · 幸研

2023

参数信息

离子束能量

10–35 keV

注入剂量

0.03–0.075 nC/μm

技术优势

损伤可预测

提出经验方程描述非晶区损伤剖面，可在给定工艺参数下预测损伤深度和形状。

有硅作参照

同一实验条件下与硅衬底对比，突出碳化硅在氦FIB下的损伤差异，便于工艺迁移。

应用场景

• 微纳加工：用模型预测氦FIB加工造成的非晶损伤，优化微纳结构加工参数。
• 碳化硅器件：评估氦FIB加工对碳化硅衬底的损伤，指导器件制造中的工艺窗口选择。
• FIB加工：提供碳化硅上氦FIB损伤的经验方程，支持FIB工艺的精确控制。