高效低损伤抛光
超声强化Fenton反应可控生成羟基自由基，对氮化镓晶片表面进行均匀氧化与去除，实现高效低损伤超精密加工。
Liang, Huazhuo · Wenjie, Chen · Fu, Youzhi · Jian, Yue · 周文杰 · 刘大伟 · He, Junfeng
Precision Engineering 2025
超声作用下，Fenton反应持续生成·OH和Fe2+，氧化还原电位和温度不断升高，增强了对GaN表面的氧化能力。
GaN表面氧化后O含量增加，主要生成Ga2O3，有利于后续抛光去除。
对比试验表明，超声与Fenton联合作用下抛光效率和表面质量优于单一方式。