等离子体辅助抛光 Lu₂O₃

集成等离子体辅助蚀刻与低压抛光，实现无亚表面损伤的原子级平坦表面。

赖敏

International Journal of Mechanical Sciences 2023

参数信息

改性速率

136 nm/h

技术优势

表面粗糙度 Sa 0.14 nm，无亚表面损伤

总加工时间缩短至低压浆料抛光的一半