抗激光损伤AR涂层

真空下损伤阈值显著提升

通过真空诱导去氧脱羟机制调控点缺陷演变，提升高功率空间激光系统光学涂层的抗激光损伤能力。

高性 · Mu, Qing · 周平

ACS Applied Materials & Interfaces 2026

参数信息

真空下点缺陷传播速率提升

115 %

技术优势

缺陷传播更快

在高功率辐照下，真空中的点缺陷传播速率比空气中高约115%，说明真空加剧了损伤演化。

氧以O2形式损失

激光辐照诱导表面氧以O2分子形式逸出，形成以ODC(I)为主的氧空位缺陷，在真空下浓度更高。

脱羟释水非直接传播

相邻Si-OH缩合驱动的脱羟主要释放H2O分子并引入缺陷前驱体，而非直接传播NBOHC。

应用场景

• 高功率激光器：用于理解高功率激光下涂层的损伤机制，从而改进涂层设计以延长寿命。
• 空间激光系统：揭示真空环境下损伤加剧的原因，为空间激光系统中光学元件提供抗损伤策略。
• 光学薄膜：指导光学薄膜在极端环境下减少氧损失和缺陷传播，提升其激光损伤阈值。