纳米 ITO 粉体

废靶再生纳米粉

从废弃 ITO 靶材直接再生纳米氧化铟锡粉体，相比传统分离流程更短，同步实现回收与高值利用。

苏子键 · 王艳 · 张元波 · Jiang, Tao

Separation and Purification Technology 2023

具体参数

平均粒径

{'zh': '45.6', 'en': '45.6'} nm

技术优势

流程大幅缩短

把分离和再生合为一步，不再需要传统湿法/火法中的多级萃取或沉淀。

金属损失更少

共挥发与同步氧化避免了铟锡在分离过程中的多次转移损失。

原位直接成纳米粉

气态的 In₂O/SnO 被同步氧化并在两段气氛下良好结晶，无需额外合成步骤。

产物是纳米级

再生粉体平均粒径 45.6 nm，满足透明导电浆料和靶材的细度要求。

应用场景

• 透明导电薄膜：纳米 ITO 粉体可用于制备透明导电薄膜，替代高纯铟锡原料。
• 显示面板制造：回收再生 ITO 可直接用于显示面板靶材生产，降低原料成本。
• 光学镀膜：纳米级颗粒有利于形成致密均匀的光学镀层。
• OLED 电极：再生 ITO 粉体可制电极浆料，用于 OLED 透明电极。
• QLED 电极：同样适用于 QLED 电极的制备，提供低成本原料。