圆片级1T-CrTe₂薄膜

阶跃磁转变

采用Si-CMOS兼容工艺在400 °C以下合成,具有垂直磁各向异性和罕见的阶跃磁转变,为自旋电子学应用提供新颖的磁性二维材料。

Jiwei, Liu · 王聪 · 许建斌 · 季威 · Xu M. · 杨德仁

Advanced Materials 2025

技术优势

圆片级合成

合成温度低于400 °C

垂直磁各向异性

阶跃状磁转变