采用多层多道沉积工艺,修复多种形式缺陷,接头强度超过母材80%,晶粒细化至2.82μm。
刘海滨 · Tianle, Xu · Jihang, Li · 谢瑞山 · Chen, Ying · Ning, Huang · Shaojun, Chen · 肖珺 · 陈树君
Journal of Manufacturing Processes 2024
通过多层多道沉积,无需搅拌针,修复深度和宽度不再受限于工具几何,可修复一维、二维和体积缺陷。
修复接头极限抗拉强度超过母材强度的80%,断裂位置始终位于修复区内部,表明侧边接头性能优于内部。
修复区平均晶粒尺寸最小可达2.82 μm,结合良好、细化的晶粒有助于提高力学性能。