CeO₂@ZIF-8复合磨料

抛光速率提高28%

通过ZIF-8提高Ce³⁺浓度,显著增强玻璃抛光的化学反应活性,同时改善磨料润湿性。

Xiaoyue, Yuan · Chen, Chuandong · 雷红 · 张泽芳

Ceramics International 2023

参数信息

材料去除率
22.2 μm/h
表面粗糙度
1.23 nm

技术优势

去除率更高

ZIF-8生长在CeO₂表面提高Ce³⁺浓度,促进与玻璃的化学反应,在最优含量下MRR达到22.2 μm/h。

表面更光滑

复合磨料抛光后玻璃表面粗糙度Sa仅1.23 nm,优于纯CeO₂,满足高精度表面要求。

润湿性改善

含CeO₂@ZIF-8的抛光液在玻璃基板上具有更优的润湿性,有助于磨料均匀分布和反应物传输。

应用场景