氧化物晶圆无损高效抛光
在磁流变抛光中同步引入光场与电场，稳定再生Fe²⁺并持续生成羟基自由基，从而在保持机械去除能力的同时抑制晶圆表面氧化损伤。
Chen, Zhijun · 阎秋生 · 潘继生 · Kaiyuan, Luo · Jingyuan, Zheng · Hanhao, Liu
Ceramics International 2024
光电协同作用下，Fe²⁺稳定再生， ·OH持续生成，避免局部氧化不足或过度腐蚀，抛光质量更稳定。
表面粗糙度降至4.35 nm，较传统抛光降低30.29%，有利于后续光电晶圆的光学与电学性能。
材料去除率提高70.77%，达到13.32 mg/h，显著缩短抛光时间。
甲基橙降解率10分钟内稳定在96.8%，表明·OH持续高效生成，氧化能力不衰减。