双阴离子插层Mg/Al-LDO吸附剂

除氟容量15.45 mg·g⁻¹

层间同时插入硝酸根与硫酸根,提高吸附活性位点数量与扩散通道,实现对工业硫酸锌溶液中氟化物的高效去除。

唐洋洋 · Junhao, Wang · Xiaoxiao, Zhang · Yang, Kai · 李林波 · 方钊 · 田忠良 · Chao, Wang

Desalination 2026

具体参数

吸附容量
{'zh': '15.45', 'en': '15.45'} mg·g⁻¹
氟离子残留浓度
{'zh': '<50', 'en': '<50'} mg·L⁻¹
去除率
{'zh': '70.30', 'en': '70.30'} %
吸附能
{'zh': '-3.48', 'en': '-3.48'} eV

技术优势

双阴离子插层提升吸附

NO₃⁻与SO₄²⁻同时插入层间,增大F 2p轨道带隙、提高吸附能和电子转移强度,并增加扩散通道,从而提升吸附位点数量和吸附性能。

纳米花结构提高容量

优化合成方法获得纳米花状形貌,显著增加比表面积和活性位点,使其在6 g·L⁻¹投加量下吸附容量达15.45 mg·g⁻¹。

满足工业排放阈值

在6 g·L⁻¹投加量下,氟离子浓度可降至50 mg·L⁻¹以下(去除率70.30%),达到常见工业排放要求。

应用场景