耦合激光抛光碳化硅陶瓷

表面粗糙度低至0.73 µm

该表面借助多束耦合纳秒激光抛光而成，有效缓解表面游离碳过多的问题，并引入氧元素改善表面质量。

Guiying, Ma · 陈晓晓 · 陈陶 · 张文武

Zhongguo Jiguang/Chinese Journal of Lasers 2023

参数信息

表面粗糙度

0.73 µm

技术优势

缓解游离碳

激光抛光伴随剧烈光化学反应，化学键断裂重组，减少表面游离碳。

引入氧元素

高重叠率与能量密度下引入氧元素，有利于表面改性。

热影响区小

多束耦合激光在光斑内分布更均匀，热影响区更小，有利于表面质量控制。

应用场景

• 碳化硅陶瓷表面处理：降低碳化硅陶瓷表面粗糙度，改善表面质量。
• 激光抛光：利用多束耦合激光实现高效非接触抛光。
• 精密表面加工：提供一种精密表面加工的新工艺方案。