水洗可图案化银纳米线膜

环保精刻替代化学蚀刻

一种水溶性聚合物辅助的水洗图案化工艺,可在柔性基底上实现30微米线宽,无需化学蚀刻且不损伤基底。

Peiyi, Guo · Ma, Lijun · Qianru, Ge · Shi, Jun · Li, Shuxin · 季书林

Advanced Materials Technologies 2024

参数信息

线宽
30 µm
线间距
40 µm

技术优势

不用化学蚀刻剂

用水溶性聚合物做保护层,多余银纳米线只需水洗即可去除,彻底避免了传统蚀刻的化学污染。

分辨率突破50 µm

实现30 µm线宽、40 µm线间距,高于传统黄光/激光蚀刻约50 µm的分辨率极限。

不损伤柔性基底

基于水洗的去除过程对柔性基底无损伤,而激光刻蚀会不可避免地对基底造成破坏。

应用场景