H-MXene/TiO₂/Si异质结

低暗电流高探测率

通过原位氧化形成TiO₂界面层并辅以盐酸质子化处理,同时抑制暗电流并提升环境稳定性。

Zhifang, Liu · Li, Mingjie · 孙翊淋 · Wang, Huaipeng · Chen, Hongwu · Tian, Yulan · 王涵 · Ding Y. · Zhiming, Chen

Nano Research 2023

技术优势

暗电流被抑制

原位氧化形成的TiO₂中间层优化了MXene与Si之间的界面性质,减少了界面表面态,因此暗电流被抑制,比探测率提高。

近红外响应增强

MXene对块体Si基底的光吸收增强,使所制备器件在近红外区域的光响应增强。

环境稳定性提高

HCl处理减小了MXene的层间距,带来更好的导电性和环境稳定性,并经实验和理论双重证实。

应用场景