CTAB修饰铜微柱阵列

灵敏度提升1.6倍

电镀过程中引入CTAB抑制剂,使铜层均匀沉积于微柱侧壁,表面粗糙度降低、晶粒细化,从而显著提高葡萄糖检测灵敏度。

Yao, Wenhao · 何虎 · 王福亮

Sensors 2024

具体参数

灵敏度
{'zh': '3314', 'en': '3314'} μA·mM⁻¹·cm⁻²
检测限
{'zh': '15.9', 'en': '15.9'} μM
灵敏度提升倍数
{'zh': '1.66', 'en': '1.66'}
灵敏度提升倍数
{'zh': '1.62', 'en': '1.62'}

技术优势

侧壁沉积更均匀

电镀工艺确保铜层在微柱侧壁均匀覆盖,避免薄层导电性差和易腐蚀的问题。

灵敏度提升1.6倍

相较未修饰电极和未加CTAB电镀电极,灵敏度分别提升1.66和1.62倍。

CTAB细化晶粒

CTAB作为抑制剂降低表面粗糙度,抑制大而粗的晶粒生长,生成小颗粒,从而提高灵敏度。

应用场景